XD-MA150 掩模對準光刻機
傳統(tǒng)曝光機光學(xué)系統(tǒng)主要由光源（高壓球形汞燈）、橢球面反光杯、冷光鏡、透射式復(fù)眼透鏡陣列、二向色鏡和球面平行光反射鏡組成。 光源發(fā)出的光被橢球面反光杯聚焦后，經(jīng)冷光鏡...
紫外曝光機，也稱光刻機、掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等，是印刷線路板（PCB）制作工藝中的重要設(shè)備。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘...
1、 省電節(jié)能，減低成本 - LED發(fā)光達到某種亮度時所消耗的能量只有15瓦左右，而傳統(tǒng)的燈達到同樣亮度要消耗1500瓦的能量，即使與UV鹵素?zé)粝啾?，也可?jié)省80%的能源，因此LED燈非常節(jié)能...
新一代LED平行光曝光機選用進口核心光源系統(tǒng)，從2007年初次研發(fā)UVLED光源曝光機，最新款的UVLED曝光機選用220V電源，即插即用，無需配置空調(diào)水塔，配置了精密的雙非球面石英透鏡，使...
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