XD-MA150 掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
平行曝光機(jī)的主要特點(diǎn) 這個(gè)類型的設(shè)備只有一個(gè)燈管，曝光臺(tái)面也是分有上下方兩個(gè)鏡子，使用的是光線折射的原理。當(dāng)兩個(gè)面同時(shí)進(jìn)行曝光的時(shí)候，上下燈的曝光是分開(kāi)的。上等先進(jìn)...
接觸式曝光 接觸式曝光指掩膜板直接與光刻膠層接觸。曝光出來(lái)的圖形與掩膜板上的圖形分辨率相當(dāng)，設(shè)備簡(jiǎn)單。接觸式，根據(jù)施加力量的方式不同又分為：軟接觸，硬接觸和真空接觸...
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