型號：XDT-4150S
化合物半導(dǎo)體用光刻機
XDT-4150S 化合物半導(dǎo)體用曝光裝置，把涂有光刻膠的基板與掩膜重疊，光刻圖形的曝光裝置。為了實現(xiàn)多層曝光時的自動對位，裝配有顯微鏡和X?Y?θ對位臺。自動進行基板的供給、對位、曝光、排出。
產(chǎn)品特色
? 采用獨自的平行調(diào)整機構(gòu),能夠高精度地設(shè)定掩膜與Wafer間的近接間隙。
? 利用獨自的高速圖像處理技術(shù),實現(xiàn)高精度的對位。
? 利用圖像處理技術(shù),使預(yù)對位可對應(yīng)薄型基板或翹曲基板及水晶等易碎Wafer(選購項)。
?利用獨自的接觸壓力精密控制機構(gòu),能夠使Wafer與掩膜高精度地接觸。
?通過Wafer的背面真空吸著方式,實現(xiàn)高速度和高精度以及穩(wěn)定的自動搬送。
外形尺寸
