型號(hào)：XD-MD8
轉(zhuǎn)臺(tái)雙面光刻機(jī)

主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路的研制和生產(chǎn)。

工作方式：本機(jī)采用板—板對(duì)準(zhǔn)雙面同時(shí)曝光方式，亦可用于單面曝光。

主要構(gòu)成：主要由雙工位高精度對(duì)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，Z軸升降機(jī)構(gòu)，2CCD實(shí)時(shí)對(duì)準(zhǔn)檢測，2臺(tái)多點(diǎn)UVLED光源蠅眼式曝光頭，真空吸片機(jī)構(gòu)等組成。

 

產(chǎn)品特色

  適用于8寸以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。
?結(jié)構(gòu)先進(jìn)
  Z軸采用滾珠直進(jìn)式導(dǎo)軌和可實(shí)現(xiàn)軟接觸的真空密著機(jī)構(gòu)，真空吸版，防粘片機(jī)構(gòu)。
?操作簡便
   雙工位高精度旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z軸升降，吸片均采用自動(dòng)方式；格板采用真空吸附，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡便。
?可靠性高
   采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的零件加工，使本機(jī)具有非常高的可靠性。
?分辨率高
   采用高均勻性的多點(diǎn)光源（蠅眼）曝光頭，非常理想的三點(diǎn)找平機(jī)構(gòu)和穩(wěn)定可靠的真空密著裝置，使本機(jī)的曝光分辨率大為提高。
?套刻精度高、速度快
   采用片真空吸附在下格板上，上格板與下格板高精度對(duì)準(zhǔn)，人工放片時(shí)2CCD可確保對(duì)位精度數(shù)值在對(duì)準(zhǔn)范圍內(nèi)，升降采用無間隙滾珠直進(jìn)導(dǎo)軌、氣動(dòng)式Z軸升降機(jī)構(gòu)，使本機(jī)片對(duì)版在分離接觸時(shí)漂移特小，對(duì)準(zhǔn)精度高，對(duì)準(zhǔn)速度快，從而提高了版的復(fù)用率和產(chǎn)品的成品率。
?可靠性高
   采用PLC控制、進(jìn)口電磁閥和按鈕、獨(dú)特的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和經(jīng)過精密機(jī)械制造工藝加工的零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性且操作、維護(hù)、維修簡便。

外形尺寸